NVIDIA RTX 60系列顯卡爆料：光追性能翻倍，3nm工藝加持

近日，NVIDIA新一代顯卡RTX 60系列（內部代號“Rubin”）的爆料信息集中流出，引發了PC硬件圈的高度關注。

 

據爆料，該系列將採用臺積電3nm工藝打造，核心性能側重光線追蹤與路徑追蹤，傳統光柵性能預計較RTX 50系列提升30%-35%，而路徑追蹤性能目標是實現約2倍的飛躍。旗艦型號RTX 6090預計搭載GR202核心，配備192個SM單元、32GB顯存與512-bit位寬；中端的RTX 6080、6070也將迎來顯存與位寬的顯著升級，分別配備20GB/320-bit、16GB/256-bit規格。此外，新卡還將搭載第六代Tensor Core與第五代RT Core，進一步強化AI、DLSS與光追表現。

 

分析認爲，RTX 60系列的性能躍進，或與即將登場的次世代主機（PS6、新Xbox）有關——爲應對主機平臺光追能力的提升，NVIDIA需強化獨立顯卡的競爭力。不過目前所有信息均爲非官方爆料，具體規格與發佈時間仍未確定，業內普遍預測該系列最早將於2027年正式亮相。

 

從這次爆料來看，NVIDIA正把寶押在“光追體驗”上，未來遊戲畫質的天花板會被再次拉高。但對普通玩家來說，更關心的還是首發價格和功耗表現，畢竟性能翻倍的同時，錢包和電源能不能扛住纔是最現實的問題。