NVIDIA RTX 60系列显卡爆料：光追性能翻倍，3nm工艺加持

近日，NVIDIA新一代显卡RTX 60系列（内部代号“Rubin”）的爆料信息集中流出，引发了PC硬件圈的高度关注。

 

据爆料，该系列将采用台积电3nm工艺打造，核心性能侧重光线追踪与路径追踪，传统光栅性能预计较RTX 50系列提升30%-35%，而路径追踪性能目标是实现约2倍的飞跃。旗舰型号RTX 6090预计搭载GR202核心，配备192个SM单元、32GB显存与512-bit位宽；中端的RTX 6080、6070也将迎来显存与位宽的显著升级，分别配备20GB/320-bit、16GB/256-bit规格。此外，新卡还将搭载第六代Tensor Core与第五代RT Core，进一步强化AI、DLSS与光追表现。

 

分析认为，RTX 60系列的性能跃进，或与即将登场的次世代主机（PS6、新Xbox）有关——为应对主机平台光追能力的提升，NVIDIA需强化独立显卡的竞争力。不过目前所有信息均为非官方爆料，具体规格与发布时间仍未确定，业内普遍预测该系列最早将于2027年正式亮相。

 

从这次爆料来看，NVIDIA正把宝押在“光追体验”上，未来游戏画质的天花板会被再次拉高。但对普通玩家来说，更关心的还是首发价格和功耗表现，毕竟性能翻倍的同时，钱包和电源能不能扛住才是最现实的问题。