國家首次宣佈突破自主DUV光刻機，含7nm節點

根據工信部9月公佈的《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》，其中包含了氟化氬光刻機（DUV深紫外光刻機），這是一種重要的半導體制造設備。該光刻機的光源波長爲193nm，能夠實現的分辨率小於或等於65nm，套刻精度小於或等於8nm，主要應用於製造7納米及以上工藝節點的芯片。這一技術裝備的推廣，對於提升我國半導體制造業的技術水平和自主創新能力具有重要意義。

首臺（套）重大技術裝備是指在國內實現重大技術突破、擁有知識產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品，包括前三臺（套）或批（次）成套設備、整機設備及核心部件、控制系統、基礎材料、軟件系統等。

這些裝備產品對於推動我國裝備製造業邁向中高端具有重要作用，是國家戰略性、基礎性的產品，對於提升國家制造業的整體水平和競爭力至關重要。