近日,國內半導體領域迎來重大突破!璞璘科技自主設計研發的首臺 PL-SR 系列噴墨步進式納米壓印設備,順利通過驗收並交付國內特色工藝客戶。這一成果標誌着我國在高端半導體裝備製造領域,向前邁出了堅實一步。
在納米壓印技術領域,日本此前一直處於世界領先地位。佳能的 FPA-1200NZ2C 納米壓印光刻機,可實現 14nm 線寬,號稱能夠生產 5nm 工藝芯片。如今,璞璘科技的 PL-SR 系列設備成功攻克多項關鍵技術難題,包括步進硬板的非真空完全貼合、噴膠與薄膠壓印、壓印膠殘餘層控制等,實現了線寬小於 10nm 的納米壓印光刻工藝,在關鍵指標上超越了佳能。
PL-SR 系列設備還配備了自主研發的模板面型控制系統、納米壓印光刻膠噴墨算法系統,以及噴墨打印材料匹配,並搭配自主開發的軟件控制系統。目前,該設備已初步完成儲存芯片、硅基微顯、硅光、先進封裝等芯片的研發驗證。
雖然指標領先,但這並不意味着就能製造 5nm 乃至更先進的芯片。納米壓印技術雖能降低能耗和成本,但其製造芯片的速度比光刻技術慢得多,且只適合相對簡單的芯片。
從技術細節來看,PL-SR 系列成功突破噴墨塗膠工藝的多項技術瓶頸,實現了納米級的壓印膜厚,平均殘餘層小於 10nm,殘餘層變化小於 2nm,壓印結構深寬比大於 7:1。通過開發可溶劑清洗的光固化納米壓印膠,解決了模板污染的潛在風險。該設備還突破了納米壓印模板面型控制的技術難點,實現了無殘餘層壓印工藝,且具備高效、高精度的壓印和拼接複雜結構的性能。
此次首臺設備的交付,不僅是璞璘科技的重要里程碑,也爲我國半導體產業發展注入了新動力,有望推動相關領域進一步發展,提升我國在全球半導體產業中的競爭力。
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