30億元/臺！全球首臺頂級光刻機出貨 支持後2nm工藝

來源——硬件世界

光刻機龍頭ASML宣佈，全球首臺最強光刻機第二代High NA EUV已經出貨。

按照官方的說法，EXE:5200是ASML對現有初代High NA EUV光刻機EXE:5000的改進版本，首個買家是Intel，一臺售價近30億元。

相比初代High NA EUV光刻機EXE:5000來說，EXE:5200擁有更高的晶圓吞吐量（EXE:5000爲每小時185片以上），可以更好的爲2nm工藝量產做支撐。

TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55數值孔徑，比前代EUV光刻機0.33數值孔徑透鏡的精度提高了，可以爲更小的晶體管功能提供更高分辨率的模式。

EUV 0.55 NA的設計旨在從2025年開始實現多個未來節點，這是業內首次部署，隨後將採用類似密度的內存技術。

需要注意的是，這種高精尖的光刻機，ASML是不可能賣——，這不是錢的問題，而是其他因素。

但是，我們的科研人員，也不是喫素的！

據國光量子介紹，近日國光量超在量子芯片製造領域取得重大突破，推出4英寸1nm精度離子束刻蝕機。

離子束刻蝕機是量子芯片製造過程中的關鍵設備，通過使用高能離子束精確去除材料，實現對芯片微觀結構的精細加工。

國光量超的這款離子束刻蝕機採用了自主研發的先進技術，能夠實現亞納米級別的刻蝕精度，滿足量子芯片對微小尺寸和複雜結構的嚴格要求。

同時，該設備還具備高穩定性和高效率的特點，能夠大幅縮短量子芯片的生產週期，降**造成本。

國光量超的離子束刻蝕機還具備多項創新特性，包括獨特的離子源設計、高精度的束流控制系統和自動化的工藝監測功能，能夠有效提高刻蝕過程的可控性和一致性，進一步提升量子芯片的性能和良品率。

此次國光量超離子束刻蝕機的成功推出，有望加速量子計算產業的發展，徹底解除量子計算芯片生產的瓶頸。