重大突破！我國新一代光刻機模型亮相

11月5日至10日，第九屆中國國際進口博覽會在上海舉行。會上，一系列重磅科技亮相。

上海微電子裝備集團（簡稱“SMEE”）攜自主研發的新一代前道乾式掃描投影光刻機SSC800、SSB800（模型）亮相中國館，展示我國前道光刻裝備自主化的階段性成果。

SMEE表示，本次展出的模型採用透明剖視設計，直觀呈現整機光學光路與內部機電系統的鏈路佈局。該平臺爲國產標準化前道光刻裝備架構，適配I-line、KrF兩類主流技術路線，整機核心的高精度物鏡與照明系統、高速雙工件臺與掩模臺、一體化自動物料傳輸系統、高精度對準調平傳感系統均實現全鏈條自主可控，具備穩定的工藝適配能力與產線運行可靠性。

據悉，目前國產前道乾式光刻機成像性能已與國際同類領先產品水平相當，套刻精度、生產效率緊密追趕國際標杆。在售的SSC800系列KrF與SSB800系列I-line機型，基於自研雙工件臺平臺，均搭載國產自主大NA物鏡，關鍵曝光成像指標對標國際標杆。SSC800整體性能躋身行業第一梯隊。

基於全棧自主可控技術底座，關鍵零部件國產化率突破90%，已實現定型與規模化量產，填補國內空白。多臺設備已在國內頭部邏輯、存儲量產線長期穩定運行，累計支持產線流片超千萬片，設備有效運行率超92%。

SMEE成立於2002年，是國內唯一具備前道乾式光刻機穩定量產交付能力的製造商，也是我國前道光刻裝備自主供給體系的核心支撐主體，業務覆蓋核心光刻裝備的設計研發、生產製造、市場銷售與全流程技術服務。公司始終錨定產業技術前沿，堅持自主創新深耕與產業鏈協同聯動並行，與上下游供應鏈、行業夥伴深度協作，攜手構建開放良性的半導體產業生態，在實現自身穩健運營的同時，持續爲我國半導體產業高質量升級提供核心裝備支撐。