1nm以下工藝？英特爾以色列新建最先進芯片廠：投資近1800億

本文來源於：快科技

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快科技6月19日消息，英特爾現任CEO基辛格在2021年上任之後提出了IDM 2.0的戰略，在全球耗資1000億美元新建晶圓廠，除了美國本土2座各200億美元的投資之後，在愛爾蘭也投資130億美元，前幾天在波蘭投資46億美元。

他們又宣佈了來一個超級投資，將投資250億美元在Kiryat Gat建設芯片製造廠，投資將近1800億人民幣，是英特爾這兩年來投資最高的。

不過這個250億美元中有100億美元是2019年就宣佈的，這次新增的部分是150億美元，將用於建設一座使用世界上最先進技術的芯片製造廠，也是以色列有史以來最大的外資投資。

這個晶圓廠預計將於2027年開始運營，並至少持續運營到2035年，在目前已有1.2萬員工基礎上，將以高於平均水平的工資再僱傭數千名工人。

英特爾這座晶圓廠的稅率將提高到7.5%，高於以色列其他芯片廠商的5%水平，但好處是以色列官方將爲英特爾提供12.8%的補貼。

但是這座晶圓廠的很多細節沒有透露，特別是量產什麼工藝，英特爾只說是最先進的，空前的。

按照英特爾當前的路線圖，2024年他們會量產18A工藝，相當於友商的1.8nm工藝，而以色列工廠是2027年運營，至少是下一代甚至下下代工藝，逼近1nm以下節點都是可能的。

英特爾的目標是2025年時重新成爲半導體工藝的領導者，2027年的新工廠自然也不會在工藝上落後，畢竟250億美元的投資實在是花錢。